适用于所有的基材及复杂的几何构形都可以进行等离子体活化、刻蚀、清洗，镀膜。

　　处理时的因热负荷及机械负荷都很低，故也可处理敏感性材料。

　　典型应用：等离子体清除浮渣、光阻材料剥离、各向异性和各向同性失效分析应用、等离子刻蚀反应、钝化层蚀刻、聚亚酰胺蚀刻等。

　　设备参数

　　处理面：直径10.5”不锈钢装载装置，水冷陶瓷绝缘

　　真空腔：内径15”阳极电镀铝，表面氧化处理

　　处理均匀性±5%

　　水冷机：W16”× D36”× H24”

　　气体箱：W30”× D24”× H12”

　　外部连接

　　电源：220V AC? 30mA 50/60Hz

　　压缩空气或氮气：80-100PSI 1/4”快速接头QC

　　处理气体：15PSI? 100sccm? 1/4”外螺纹VCR接头

　　排气：50CFM KF40快卸紧固法兰

　　水冷：30-60PSI 3/8”快速接头QC

　　基本配置

　　电源配给，RIE

　　安全互锁装置

　　通讯接口模块

　　设备水电气连接系统

　　控制器

　　RIE配置

　　等离子射频电源 RF600W（可选装RF1000W）

　　气体流量控制：MFC质量流量计×4（1路适用于氯气）

　　装载配置：真空装载腔真空系统、真空装载腔加热组件

　　控制系统：电脑控制、标准19”液晶显示屏

　　真空泵：分子涡轮泵、机械泵（干泵）8cfm-C

　　真空控制组件、射频电极组件、真空存储腔

　　产品关键词：常温常压等离子清洗机、小型等离子清洗机、常温常压等离子设备、og真人官方、等离子除尘、等离子刻蚀、等离子接枝、等离子沉积、等离子改性、等离子活化；真空等离子清洗、真空等离子除尘、真空等离子刻蚀、真空等离子接枝、真空等离子沉积、真空等离子改性、真空等离子活化；plasma、plasma clear、plasma treatment system、plasma treatment、plasma system。